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第199章 意识（第2页）

目前，魔都微电子能够量产的是9onm光刻机，但经过多次曝光后可以生产28nm芯片，甚至理论上极限制程可以做到22.5nm。但多重曝光的良品率有些低，所以魔都微电在研下一代的65nm光刻机，用来生产28nm或者22nm工艺芯片良品率就高多了。

良品率越高、成本越低、性能越好，这就是著名的摩尔定律的基本思想，制程越先进，实际上同等成本下将换来更好的性能提升。

国内的几家半导体公司之所以催促魔都微电的65nm光刻机，主要动力就是新远的x321、x322系列以及配套其他动态存储器业务。

现在利用9onm光刻机多次曝光生产28nm的成本太高了，如果是65nm光刻机多次曝光生产28nm制程，成本只有9onm光刻机的三分之一。

一枚芯片就能多出近2ooo块的利润！

实话说，就算是现在28nm的三进制芯片价格也远台积电或者三星的同制程成本，要不是新安汽车是用在汽车上面可以接受高成本，并愿意支持国产厂商，9onm多次曝光到28nm的低良品率这些半导体厂商甚至不想做。

实际上就算是28nm制程也是有水分的，每一枚x321322系列芯片都是45nm、28nm混合工艺，减少28nm制程区域来使良品率勉强可以接受。

新安的幕后话事人是林炬，林炬为什么愿意当大怨种花高成本买芯片，不就是为了刺激国内半导体厂商升级嘛！

65nm是一道坎，越过65nm光刻机再往前走一点，就进入28nm光刻机领域了。

28nm光刻机能干什么？这就可以通过多次曝光生产7nm、5nm芯片了，一直用到林炬穿越前都是主流。

甚至是14nm、1onm，也完全能满足相当的消费市场需要了。

现在，通过新安汽车间接赚了一大笔钱的半导体厂商们开始向魔都微电子投钱，加65nm光刻机以及后续中端duV光刻机的研了。

不过实际上这里面还有科工委推动的因素。

华芯国际、紫光、华虹都是国企，他们愿意联合魔都微电子，也是有内部消息：

国家正在筹备三进制计算机体系建设！

这个消息只有极少数人知道，真假未知，但随后三家半导体企业背后的国资力量就开始推动魔都微电子研更高制程的配套体系，力求扩大产量降低成本。

关于新远公司不声不响搞出的三进制芯片竟然能以28nm落后工艺匹敌甚至小小出主流x86架构14nm工艺的信息，已经被上级在几个月内要求半导体专家反复求证过。

虽然后者都对这个突然冒出来的三进制体系深度震撼，力劝搞清楚原委，解开这个压根就不科学的谜团，但上级已经管不了这么多了。

查？查什么？

由于太空竞赛的开始，虽然与阿美的经济交流依然在逐年上升，但是封锁已经越来越严厉了，这是两家高层都能感受到的。

现在一直落后了二十多年的华国半导体行业居然有真·弯道车的机会，那就一定要把握住。

根据科工委的报告，14nm技术也很快要过时了，未来几年将进入1onm以内的时代，而国内跟不上这样的度，短期内只有28nm能逐渐成熟些提高良品率。

所以不能失去这个弯道车的好机会，一定要尽快推行三进制体系！

（本章完）

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