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第494章 真冤大头宋远二（第1页）

宋远想搞光刻机，不是突发奇想，而是早有预谋的。

后世光刻机可谓是我国电子工业上的一道伤疤，西方国家对我们禁运时，科普这方面的文章和视频那是铺天盖地，宋远也是那时候才知道光刻机是如此重要！

重活到这个火红年代，宋远就想着总得改变点历史、做出点贡献，这才算不枉此生吧！

得益于看过的科普文章，宋远发现一是光刻机之前的难度不是很大，咱们国家在80年代时并不落后多少；二是国外的光刻机技术从八十年代末期开始一直困住193nm这个阶段足足困了20年。

光刻机的核心之一是光源，而制造出曝光尺寸更小的芯片就需要波长更小的光源。传统光刻机从汞灯的436纳米波长到深紫外光刻技术的193纳米后迟迟无法寻找到更好的光源，一直卡了足足20年。

一直到台积电的资深处长林本坚提出一个新的方法，光的传播介质不用空气而用纯水，经过水的聚焦折射后实现更高的分辨率。

当时的光刻机头部厂家佳能和尼康都拒绝了这个方法，认为会额外增加成本。但当时还很弱小的荷兰asml拼死一搏采纳了这个想法。

这也是台积电和asml的命运转折点，2004年asml在台积电的帮助下成功研发出首台浸入式光刻机，配合其它环节的改进，最高可以做到7纳米芯片的制程，轻松击败了佳能和尼康，成为世界上最大的光刻机生产厂家。

随后asml又开始攻克极紫外光源（euv技术），想要将光源的曝光波长降低到13.5纳米。在英特尔、三星、台积电这些大厂的输血下于2010年研制出首台euv光刻机，2015年开始尝试量产，但一直到了2020年才大规模量产。

宋远重生前像苹果手机的3纳米a17芯片，就是euv光刻机生产的。

正因为被科普过光刻机的整体发展历程，宋远这才有些信心来搞这么高大上的玩意。

看向吴副院长，宋远笑道：“领导，钱我可以投。但我也有条件的啊！”

吴副院长笑道：“宋远同志请说！”

“领导，千树贸易投资这些研发，主要目的还是为了商业化，研发出来的光刻机要实际投入使用的！要不然光投入没产出，我们也受不了！”

吴副院长点头，这很合理。

“另外，千树贸易有专人在跟踪国际上最先进的成品和研发情况，会根据形势调整研发的方向。”

宋远解释道：“做出来的产品，我们肯定要面向全世界销售的，不说领先最起码也不能落后太多吧！要不然千树贸易卖不出去挣不上钱，后期的研发投入从哪来？”

这话也没太大毛病，吴副院长也不好说你只负责出钱就行，具体怎么花你别管。

旁边的一个胖一点的人，宋远记得之前介绍的是科学院的一位副秘书长不乐意了，皮笑肉不笑的说道：“我们科学院可是国家在科研方面的最高机构，代表国家定下来的研究方向，怎么能随意变更呢？”

“小宋同志，这科研不是挣钱，必须要懂行的人来管。”

宋远看了他一眼笑了笑：“咱们这合作研究纯属自愿，这位同志觉得哪方面不合适，可以不合作嘛！”

“千树在港岛也不是找不到适合的人！”

那个副秘书长急了，这要是眼见到手的美元飞了，院里人能饶过他才怪：“宋远同志，我们科学院研究的项目，各个都是事关国家大局的重大项目。既然你们千树公司有多余的外汇，还请你们以国家大局为重，多多支持！”

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